ВВЕДЕНИЕ …
ГЛАВА I. ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР…
1.1. Общая характеристика оксида цинка .
1.2. Получение ориентированных и эпитаксиальных пленок ZnO методом магнетронного распыления. ……
1.3. Основные механизмы роста тонких пленок из газовой фазы…
1.4. Эмиссия микрочастиц при распылении и их влияние на ростовые процессы формирования пленок. Постановка задачи………
ГЛАВА II. ТЕХНИКА И МЕТОДИКА ЭКСПЕРИМЕНТА…………
2.1. Физика магнетронного распыления…………
2.2. Описание установки магнетронного распыления……
2.3. Методика подготовки подложек и изготовления мишеней ZnO….
ГЛАВА III. ИССЛЕДОВАНИЕ МОРФОЛОГИИ ПОВЕРХНОСТИ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ ПЛЕНОК ОКСИДА ЦИНКА В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА…….
3.1. Особенности и техника эксперимента при больших токах магнетронного разряда.
3.2. Механизм роста эпитаксиальных пленок ZnO на сапфире при высоких скоростях роста.
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
ЛИТЕРАТУРА…